Pourquoi choisir des creusets en tungstène pour l'évaporation par faisceau d'électrons ?
L'évaporation par faisceau d'électrons est une méthode de revêtement essentielle, largement utilisée dans les domaines de l'optique, de la fabrication de semi-conducteurs et des matériaux avancés. Sous vide poussé, un faisceau d'électrons émis par un canon à électrons est focalisé sur le matériau cible, provoquant son échauffement rapide, sa fusion et son évaporation locale. Les atomes de vapeur se condensent ensuite sur la surface du substrat pour former un film mince et uniforme.
Bien que le faisceau d'électrons soit la principale source d'énergie du procédé, le creuset est l'élément clé qui contient et supporte le matériau évaporé. Le choix du matériau du creuset influe directement sur la pureté, la stabilité et l'efficacité d'évaporation du film mince.
Le tungstène possède un point de fusion extrêmement élevé (3410 °C) et reste stable même à des températures très élevées, sans se déformer. Il conserve son intégrité structurelle sous vide et à haute température et résiste aux réactions avec le métal en fusion, évitant ainsi la contamination du film, ce qui en fait le matériau de choix pour la fabrication des creusets.

Choisir uncreuset en tungstèneL'évaporation par faisceau d'électrons offre les avantages significatifs suivants :
Pureté du film plus élevéeL'inertie du tungstène garantit que le processus d'évaporation est exempt de contamination chimique, assurant ainsi un revêtement propre.
Longue durée de vie: Forte résistance à la corrosion, à l'oxydation et aux chocs thermiques, permettant une utilisation répétée.
Large gamme de matériaux applicables: Convient à divers métaux à point de fusion élevé tels que le titane (Ti), le chrome (Cr), le molybdène (Mo), le tantale (Ta), l'or (Au) et l'argent (Ag).
Bonne stabilité thermique: Conserve sa forme et ses performances stables même après des cycles répétés de chauffage et de refroidissement.
Efficacité d'évaporation élevéeUne excellente conductivité thermique assure une évaporation plus uniforme et améliore le taux de dépôt.
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